新共用プロジェクト
レーザーアブレーション成膜装置
メーカー | パスカル株式会社 他 |
---|---|
型番(形式) | 特注仕様 |
設置場所 | 2号館601B室 |
管理室 | RCS-III |
公開範囲 | 学内のみ |
薄膜やナノ構造を作製するための装置です。レーザーをターゲットに打ち付けて物質を蒸発させて基板まで飛ばし、堆積させる事で薄膜・ナノ構造が基板上に得られます。ターゲット材料に関しては要相談。研究室向け特注仕様。
装置性能および仕様
装置性能および仕様 | YAGレーザー使用(波長:266, 355, 532 nm) |
---|---|
気相合成装置 |