トップ > 装置・機器紹介 > 真空蒸着装置新共用プロジェクト真空蒸着装置メーカー株式会社アルバック 他型番(形式)特注仕様設置場所2号館601B室管理室RCS-III公開範囲学内のみ薄膜・ナノ構造作製装置です。真空中(~10-3 Pa)で材料を加熱して気化させ、基板上に堆積させることで薄膜・ナノ構造が得られます。材料として、金や銀などの低融点材料を用いることができます。装置性能および仕様装置性能および仕様真空加熱蒸着システム真空度:約10-3Pa検索キーワード新共用プロジェクト学内真空蒸着