物理・表面計測系
集束イオン／電子ビーム 複合ビーム加工観察装置(FIB-SEM)
| メーカー | 日本電子 |
|---|---|
| 型番(形式) | JIB-4500 |
| 導入年度 | 2010 |
| 設置場所 | セラ研B棟117 |
| 管理室 | 透過型電子顕微鏡室IV |
| 公開範囲 | 学内外 |
| 技術職員 | 配置あり |
| 学内利用 | 機器分析受付システム |
1台でFIB加工からSEM観察まで可能な複合ビーム加工観察装置です
装置性能および仕様
■FIB(集束イオンビーム)
| イオン源 | Ga 液体金属イオン源 |
|---|---|
| 加速電圧 | 1～30 kV |
| 倍率 | ×30 (視野探し)、×100～×300,000 |
| 像分解能 | 5nm (30kV時) |
| ビーム電流 | 0.5pA ～30nA（30kV時） |
■SEM(電子ビーム)
| 加速電圧 | 0.3～30 kV |
|---|---|
| 倍率 | ×5～×300,000 |
| 像分解能 | 2.5nm(30kV時) |
| ビーム電流 | 1pA ～1uA |
■試料ステージ
| ゴニオメータステージ | X:76mm、Y:76mm、Z:5～48mm T:－10～90°、R:360° |
|---|
分析対象
| 状態 | 固体 |
|---|