物理・表面計測系

集束イオン/電子ビーム 複合ビーム加工観察装置(FIB-SEM)

jib4500
メーカー日本電子
型番(形式)JIB-4500
設置場所セラ研B棟117
管理室透過型電子顕微鏡室IV
公開範囲学内外

1台でFIB加工からSEM観察まで可能な複合ビーム加工観察装置です

装置性能および仕様

FIB(集束イオンビーム)

イオン源Ga 液体金属イオン源
加速電圧1~30 kV
倍率×30 (視野探し)、×100~×300,000
像分解能5nm (30kV時)
ビーム電流0.5pA ~30nA(30kV時)

SEM(電子ビーム)

加速電圧0.3~30 kV
倍率×5~×300,000
像分解能2.5nm(30kV時)
ビーム電流1pA ~1uA

試料ステージ

ゴニオメータステージX:76mm、Y:76mm、Z:5~48mm T:-10~90°、R:360°

分析対象

状態固体

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