物理・表面計測系

薄膜結晶用X線回折装置(XRD)

smartlab
メーカーリガク
型番(形式)SmartLab
設置場所22号館401号室
管理室X線分析室
公開範囲学内外
技術職員配置あり
学内利用機器分析受付システム

多彩な薄膜評価手法の利用が可能なX線回折装置。試料を水平保持のまま測定可能なので、試料の反りや歪みを防ぐことができる。薄膜試料の測定の他、バルク、粉末、単結晶試料の測定も可能である。

装置性能および仕様

X線発生装置回転対陰極式
最大定格出力9kW
定格電圧20~45kV
定格電流10~200mA
ターゲットCu
入射光学系集中法または平行法、Ge(220) 2結晶、4結晶モノクロメータ
受光光学系ソーラースリット、グラファイトモノクロメータ、Ge 2結晶アナライザ
検出器シンチレーションカウンタ、一次元検出器(D/teX Ultra)、二次元検出器(PILATUS 100K/R)
ゴニオメータ試料水平保持方式
測定の種類2θ-θ測定、ロッキングカーブ測定、in plane測定、逆格子空間マッピング、極点測定、反射率測定、小角散乱
温度常温のみ

分析対象

状態薄膜、多結晶、粉末、単結晶
物質金属、無機化合物、有機物、高分子
最大試料サイズ直径150mmx3mmt

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