真空蒸着装置

物理・表面計測系

抵抗加熱により、金属、絶縁物、半導体材料を成膜することができます。

分析対象	真空蒸着装置は真空中で材料を加熱し、蒸発させることで蒸発原子を基板上に薄膜を形成させます。ボートを加熱させることで蒸着源を蒸発させるので、低融点な材料（AlやAgなのどの金属材料）を作製することに適しています。また、膜厚計を付属しているので、ナノメートルオーダーで膜厚を制御することが可能です。