物理・表面計測系

真空蒸着装置

vtr060m
メーカーアルバック
型番(形式)VTR-060M/ERH
設置場所22号館164室
管理室成膜室
公開範囲学内のみ

抵抗加熱により、金属、絶縁物、半導体材料を成膜することができます。

装置性能および仕様

蒸着電極構成2点式
基板サイズ最大200mm
成膜コントローラー付き

分析対象

分析対象真空蒸着装置は真空中で材料を加熱し、蒸発させることで蒸発原子を基板上に薄膜を形成させます。ボートを加熱させることで蒸着源を蒸発させるので、低融点な材料(AlやAgなのどの金属材料)を作製することに適しています。また、膜厚計を付属しているので、ナノメートルオーダーで膜厚を制御することが可能です。

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