物理・表面計測系
マグネトロンスパッタリング装置
| メーカー | アルバック機工 |
|---|---|
| 型番(形式) | VTR-151M/SRF |
| 導入年度 | 2015 |
| 設置場所 | 22号館164室 |
| 管理室 | 成膜室 |
| 公開範囲 | 学内のみ |
| 技術職員 | 配置なし |
| 学内利用 | 機器分析受付システム |
電子材料、半導体デバイス等の基礎研究に用いる装置で、金属、絶縁体、半導体等色々な薄膜を成膜することができます。
装置性能および仕様
| カソード | 2インチ3元 |
|---|---|
| 基板推奨サイズ | Φ2インチ |
| 基板加熱 | Max350度 |
| 基板電極間距離 | 50mm～90mm |
| RF電源 | 0~300W |
| ガスライン | アルゴン、酸素、パージ用窒素 |
分析対象
| 分析対象 | 現在、ITO、TiO2、ZnOを共用ターゲットとして揃えています。共用ターゲット以外の材料は相談に応じて、利用者に購入していただき使用可能です。 |
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