物理・表面計測系

マグネトロンスパッタリング装置

vtr151m
メーカーアルバック
型番(形式)VTR-151M/SRF
設置場所22号館164室
管理室成膜室
公開範囲学内のみ

電子材料、半導体デバイス等の基礎研究に用いる装置で、金属、絶縁体、半導体等色々な薄膜を成膜することができます。

装置性能および仕様

カソード2インチ3元
基板推奨サイズΦ2インチ
基板加熱Max350度
基板電極間距離50mm~90mm
RF電源0~300W
ガスラインアルゴン、酸素、パージ用窒素

分析対象

分析対象現在、ITO、TiO2、ZnOを共用ターゲットとして揃えています。共用ターゲット以外の材料は相談に応じて、利用者に購入していただき使用可能です。

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