「直流グロー放電による負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた、主に走査電子顕微鏡試料用の導電性薄膜作製装置です。
試料に導電性を持たせるために通常用いられる金や白金や白金パラジウム合金などのコーティングでは、高倍率の観察では金属粒子が目立つようになりますが、上記の製膜法では非晶質のオスミウム薄膜が形成されるので、高倍率（10万倍以上）の観察でもオスミウム粒子が見えません。
また、回り込みが良いため、凹凸の大きい試料でもチャージアップしにくいという特長もあります。

PtPdコーティングでは金属粒子と思われる5nm前後の粒子が試料表面に見られますが、Osコーティングでは金属粒子が見られないため試料の微細な構造を観察できます。