物理・表面計測系

断面試料作製装置

ib09020
メーカー日本電子株式会社
型番(形式)IB09020
設置場所22号館401室
管理室X線マイクロアナライザー室
公開範囲学内外

アルゴンイオンビームを試料に照射し、試料原子が弾き出されるスパッタリング現象を利用して試料を削る方法です。従来の機械研磨では困難な材料の断面作製に適しています。

装置性能および仕様

イオン加速電圧2~6kV
イオンビーム径500um(半値幅)
ミリングスピード100um/h以上(6kV)
使用ガスアルゴンガス

分析対象

状態固体
物質金属、半導体、鉱物、高分子、セラミックス
最大試料サイズ11mm×10mm×2mmt

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