物理・表面計測系
冷却クロスセクションポリッシャ(CCP)
| メーカー | 日本電子 |
|---|---|
| 型番(形式) | IB19520CCP 製品カタログ（学内アクセスのみ） |
| 設置場所 | 2号館113B室 |
| 管理室 | FIB-SEM室 |
| 公開範囲 | 学内外 |
| 技術職員 | 配置あり |
| 学内利用 | 機器分析受付システム |
SEMやEPMAでの観察・分析の前処理として最適な装置です。
試料を液体窒素冷却する事によりイオンビームによる熱ダメージを軽減させる事ができます（-120～０℃まで調整可能）。また、加工の様子をモニターで確認できるため、従来多かった削り残し・削りすぎなどの失敗を防げます。さらに、大気非曝露機構がついているため、加工から観察までを大気非曝露環境下で行うことが可能です。
装置性能および仕様
| イオン加速電圧 | 2～8kV |
|---|---|
| ミリングスピード | 500um/h以上(8kV) |
| 広域断面ミリングモード | 最大加工幅:8mm |
| 使用ガス | アルゴン |
| 冷却温度設定範囲 | －120～0℃ |
| 大気非曝露機構 | あり |
分析対象
| 状態 | 固体 |
|---|---|
| 物質 | 金属、半導体、鉱物、高分子、セラミックス |
| 最大搭載試料サイズ | 【断面ミリング】 11mm (幅)×8mm (長さ)×3mm (厚さ) 25mm (幅)×15mm (長さ)×10mm (厚さ) ※広域加工ホルダー使用時 【平面ミリング】 40mm (直径)×15mm (厚さ) |