物理・表面計測系
冷却クロスセクションポリッシャ(CCP)

メーカー | 日本電子 |
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型番(形式) | IB19520CCP 製品カタログ(学内アクセスのみ) |
設置場所 | 2号館113B室 |
管理室 | FIB-SEM室 |
公開範囲 | 学内外 |
技術職員 | 配置あり |
学内利用 | 機器分析受付システム |
SEMやEPMAでの観察・分析の前処理として最適な装置です。
試料を液体窒素冷却する事によりイオンビームによる熱ダメージを軽減させる事ができます(-120~0℃まで調整可能)。また、加工の様子をモニターで確認できるため、従来多かった削り残し・削りすぎなどの失敗を防げます。さらに、大気非曝露機構がついているため、加工から観察までを大気非曝露環境下で行うことが可能です。
装置性能および仕様
イオン加速電圧 | 2~8kV |
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ミリングスピード | 500um/h以上(8kV) |
広域断面ミリングモード | 最大加工幅:8mm |
使用ガス | アルゴン |
冷却温度設定範囲 | -120~0℃ |
大気非曝露機構 | あり |
分析対象
状態 | 固体 |
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物質 | 金属、半導体、鉱物、高分子、セラミックス |
最大搭載試料サイズ | 【断面ミリング】 11mm (幅)×8mm (長さ)×3mm (厚さ) 25mm (幅)×15mm (長さ)×10mm (厚さ) ※広域加工ホルダー使用時 【平面ミリング】 40mm (直径)×15mm (厚さ) |