低エネルギーイオンビームを用いたスパッタリング法により、絶縁物・金属薄膜および各種化合物等、新素材の創成を目的とした薄膜作成装置です。また、アシスト用のイオン源及びＥ／Ｂ蒸発源を増設し、異種材料の複合成膜や表面改質等により、新機能材料の研究開発を行うことも可能です。