物理・表面計測系

集束イオンビーム加工観察装置(FIB)

jem9320fib
メーカー日本電子
型番(形式)JEM-9320FIB
設置場所22号館414室
管理室電子顕微鏡試料作成室
公開範囲学内外
技術職員配置あり
学内利用機器分析受付システム

本装置は2024年度内に廃棄予定です。複合ビーム加工観察装置(FIB-SEM)をご利用ください。
透過電子顕微鏡観察のために、試料から10μm×10μm×100nm程度の薄片を切り出すための装置です。加工後、大気下で光学顕微鏡を利用したピックアップシステムで試料をTEMメッシュに移しかえます。

装置性能および仕様

イオン銃ガリウム液体金属源
加速電圧5~30kV(5kVステップ)
加工形状矩形、ライン、スポット

分析対象

状態非導電性試料は金属蒸着などで導電性にしてください
試料サイズ縦、横サイズはφ10mm以内かつ高さ1mm程度
加工不可ガリウムが試料内に残るのでガリウムを含む試料の元素分析には向きません

加工例

非導電性のSiO2は導電性処理を施したのちFIB加工をしなければなりませんが、金属(Pt)スパッタを施すと、SiO2の最表面(SiO2とPtの間)数nmはスパッタのダメージを受けてしまいます。名工大ではこれを回避する独自の処理を開発しており、鮮明な表面TEM観察像を得ることができます。

Ptスパッタを施したSiO2表面のTEM写真

名工大独自の処理を施したSiO2表面のTEM写真

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