物理・表面計測系
電界放出型電子プローブマイクロアナライザ(EPMA)
| メーカー | 日本電子 |
|---|---|
| 型番(形式) | JXA-8530F |
| 設置場所 | 22号館402室 |
| 管理室 | X線マイクロアナライザー室 |
| 公開範囲 | 学内外 |
| 技術職員 | 配置あり |
| 学内利用 | 機器分析受付システム |
| 学外依頼 | 大学連携研究設備ネットワーク |
電子プローブマイクロアナライザー（FE-EPMA）は固体表面に電子線を照射し、二次電子や反射電子などによる像観察と同時に、試料から発生する特性X線を検出して、構成元素とその量を測定することができる。金属、半導体、セラミックス、鉱物などの定量分析、定性分析、さらに線分析、面分析、相分析ができる。また、本装置には軟X線分光器を有しており、軽元素の分析も可能です。
装置性能および仕様
| 分析元素範囲 | WDS : Be~U EDS : B~U |
|---|---|
| X線分光範囲 | WDS分光範囲 : 0.087〜9.3nm, EDSエネルギーレンジ : 20keV |
| X線分光器数 | WDS : 3基 EDS : 2基 |
| 加速電圧 | 1~30kV |
| 照射電流範囲 | 10-12～ 5×10-7A |
| 二次電子分解能 | 3 nm (WD:11 mm, 30 kV) |
| 分析条件最小プローブ径 | 40 nm (10 kV, 1×10-8 A) 100 nm (10 kV, 1×10-7 A) |
| 走査倍率 | × 40 ～ × 300,000 (W D:11 mm) |
| 軟X線分光器 | 検出限界：20 ppm(カタログ値） 分解能：0.3 eV（Al-L発光スペクトル 73 eV測定時） 回折格子：ラミナー型収差補正不等間隔溝回折格子 CCDカメラ：軟X線分光器用背面照射型X線CCDカメラ 取得エネルギー範囲：50-170 eV （回折格子JS50XL）、70-210 eV （回折格子JS200N） |
| 大気非曝露 | トランスファーベッセルあり |
| 遠隔観察 | Microsoft Teams等のWeb会議システムを用いた遠隔の立ち会い測定が可能 |
分析対象
| 状態 | 固体 |
|---|---|
| 物質 | 金属、半導体、鉱物、高分子、セラミックス |
| 試料サイズ | 通常：30 mmφ × 20 mm以内 最大：100 mm × 100 mm × 50 mm（高さ調整機構が必要） 粉末の場合：インジウム圧着に数mg必要 |
| 分析不可 | 水分やガスを多く含むもの、磁性材料 |
測定例
岩石（エクロジャイト）の元素マッピング
ご依頼時に必要な情報
- 測定の目的
- 試料の個数
- 試料の大きさ（試料単体の大きさと樹脂包埋されている場合はその大きさ）
- 試料の状態（樹脂包埋→SiC研磨→最終は1μmダイヤモンドペーストバフ研磨、樹脂包埋のみなど詳細に）
- 薄膜の場合、その膜厚
- 測定種類（定性・定量・マップ・ライン から選択）
- 測定範囲（定性・定量は【スポット、20μmφ】、マップ・ラインは【30×30μm、30μm】など詳細に）
- 測定点数（1試料5箇所定量など）
- 試料含有元素（わかる範囲で）と各元素の大まかな含有量（wt%）
- 測定希望元素（マップ・ラインの場合のみ）
- 導電性の有無（試料単体の導電性と樹脂包埋されている場合はその導電性）
- 磁性の有無
- 腐食性の有無
- 毒性の有無
- 結晶性の有無（ある場合は多結晶か単結晶か）
- 水分・ガス等の含有の可能性の有無