物理・表面計測系

走査型デュアルX線光電子分光分析装置(XPS)

メーカーアルバック・ファイ
型番(形式)PHI Quantes
製品カタログ(学内アクセスのみ)
設置場所22号館159室
管理室光電子分光室
公開範囲学内外
学内利用機器分析受付システム

集光された硬X線及び軟X線を用いて、微小位置から放出される光電子の運動エネルギーを計測することで、試料を構成する元素の組成、原子の価数など、分析対象となる原子の化学状態を観測する光電子分光分析装置です。表面処理装置としてアルゴンモノマー/クラスターイオンビーム装置を搭載することにより、無機材料、有機材料など様々な試料の光電子分光測定が可能です。また、大気非曝露型トランスファーベッセルを用いることにより、大気に測定試料を晒さずに測定が可能です。

装置性能および仕様

X線源Al Kα線:ビーム径7.5μm~200μmで可変
Cr Kα線:ビーム径14μm~200μmで可変
エネルギー分解能Al Kα線:最高0.48eV(Ag 3d5/2のFWHMで規定)
Cr Kα線:最高0.85eV(Ag 3d5/2のFWHMで規定)
走査X線イメージSXITM(Scanning X-ray induced secondary electron image)により、正確・迅速な分析位置の決定が可能。
測定時間:1~5秒
走査範囲:最大±1.4mm(最小ステップ:2μm)
検出器静電半球形エネルギーアナライザー
マルチチャンネルディテクタ(32ch)
掃引範囲:0~5450eV(分解能:最小25meV)
到達真空度分析室:6.7×10-8Pa以下
試料加熱室:5.0×10-6Pa以下
帯電中和低エネルギー電子とイオン同時照射による帯電中和
イオン銃アルゴンモノマー/クラスター切り替え可能なデュアルイオン銃を搭載。無機系材料の深さ方向分析および有機系物材料の低損傷深さ方向分析が可能。
測定温度-120℃~250℃(試料ステージ上)
試料加熱室高真空下で1000℃まで加熱可能
解析ソフトPHI MultiPakTM(装置PCにインストール)
CasaXPS(サイトライセンスのため、学内者は申請に応じて研究室のPCにインストール可能)

分析対象

試料サイズ試料台(75mm×75mm)に最大100mmφの試料が取付可能
高さ:最大20mm
状態薄板状
物質金属、半導体、セラミックス、無機材料、有機材料

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